[发明专利]一种供气装置及等离子体增强型化学气相沉积机台

摘要

本发明涉及半导体集成电路制造技术领域，公开了一种供气装置及等离子体增强型化学气相沉积机台。通过本发明创造，提供了一种可应用在PECVD机台中的且用于工艺反应后清洗的新型供气装置及等离子体增强型化学气相沉积机台，即通过对PECVD机台上固有的射频系统进行功率切换改造，可使得沉积工艺和清洗工艺共用一套射频系统，节省一套远程离子源系统的成本，保证设备结构的简化，同时由于是采用线圈感应磁场的方式电离清洗气体，可保持与远程离子源的电离方式一致，使得获取的清洗气体具有能量低、密度高和方向性弱的特点，能够与化学反应的沉积工艺具有很好的适配性，最终可实现清洗效果好和对腔室内部零部件损伤小的目的。