[发明专利]一种双模态全场光学相干层析成像装置及成像方法在审
| 申请号： | 202010649446.2 | 申请日： | 2020-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN111829985A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 杜凯;王金玉;李俊;邹钱生;熊亮 | 申请（专利权）人： | 杭州今誉信息科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45 |
| 代理公司： | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人： | 方仕杰 |
| 地址： | 310000 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种双模态全场光学相干层析成像装置，包括低相干光源，所述的低相干光源的输出端连接有光束分离器BS，所述的光束分离器BS的一端通过成像透镜Lens连接有面阵CCD探测器，所述的光束分离器BS的另一端通过物镜MO连接有压电陶瓷PZT，物镜MO为参考镜，所述的物镜MO设置在参考臂上，参考臂的输出端设置有样品臂，样品臂上安置有样品。本发明保持参考臂和样品臂的相位差不变，连续采集相干图像并经过标准差计算获得弱散射特性结构的相干图像，然后融合到全场光学相干层析成像图像中，可实时对样品中强散射特性和弱散射特性结构进行亚微米量级相干成像，且无需对样品进行切片、染色、荧光标记等处理，具有广泛的临床应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双模 全场 光学 相干 层析 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
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