[发明专利]一种双模态全场光学相干层析成像装置及成像方法在审

专利信息
申请号: 202010649446.2 申请日: 2020-07-08
公开(公告)号: CN111829985A 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 杜凯;王金玉;李俊;邹钱生;熊亮 申请(专利权)人: 杭州今誉信息科技有限公司
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45
代理公司: 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 代理人: 方仕杰
地址: 310000 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 双模 全场 光学 相干 层析 成像 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种双模态全场光学相干层析成像装置,其特征在于:包括低相干光源,所述的低相干光源的输出端连接有光束分离器BS,所述的光束分离器BS的一端通过成像透镜Lens连接有面阵CCD探测器,所述的光束分离器BS的另一端通过物镜MO连接有压电陶瓷PZT,所述的物镜MO为参考镜,所述的物镜MO设置在参考臂上,所述的参考臂的输出端设置有样品臂,所述的样品臂上安置有样品。

2.一种双模态全场光学相干层析成像方法,其特征在于:包括以下步骤:

第一步,驱动压电陶瓷PZT,对参考镜进行移相,面阵CCD探测器同步采集四幅相干图像,利用四步移相算法解算获得样品轴向深度位置D处的静态全场光学相干层析图像IS

第二步,设置压电陶瓷PZT的驱动电压为零,使参考臂和样品臂的相位差保持不变,面阵CCD探测器在时间T内连续采集获得N幅相干图像It1,It2……ItN

第三步,利用标准差算法计算获得样品轴向深度位置D处的弱散射结构的动态变化成像ID

第四步,将动态变化成像ID标记成绿色,并叠加到静态全场光学相干层析图像IS中,得到样品轴向深度位置D处的双模态全场相干层析成像。

3.根据权利要求2所述的一种双模态全场光学相干层析成像方法,其特征在于:所述的第一步中的四步移项算法的计算过程为:

首先取相干相位差Φ值为0、π和根据选取的相干相位差进行采集,获得四幅相干光强图像,分别为I(x,y;0)、I(x,y;π)和其中:x为相干光强图像像素点的横坐标,y为相干光强图像像素点的纵坐标,然后依次扫描相干光强图像的每个像素位置并根据公式

计算得到静态全场光学相干层析图像IS

4.根据权利要求2所述的一种双模态全场光学相干层析成像方法,其特征在于:所述的第三步中标准差算法的计算公式为

其中,D(x,y)为在像素点(x,y)处的动态信号强度,S(x,y)为由一个小样本量的M帧图像计算获得的干涉信号强度均值,S(x,y,ti)为像素点(x,y)在N幅相干图像处的信号强度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州今誉信息科技有限公司,未经杭州今誉信息科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010649446.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top