[发明专利]双特异性PSMA/GRPr靶向双模态显像纳米造影剂及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202010632397.1 | 申请日： | 2020-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN111558052B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 谢少伟;薛蔚;董柏君;李凤华 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学医学院附属仁济医院 |
| 主分类号： | A61K49/22 | 分类号： | A61K49/22;A61K49/18;A61K49/14 |
| 代理公司： | 上海骁象知识产权代理有限公司 31315 | 代理人： | 赵峰 |
| 地址： | 200001 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明属于造影剂领域，提供了一种双特异性PSMA/GRPr靶向双模态显像纳米造影剂，以PLGA‑PEG为壳膜，内部包裹液态氟碳1H‑全氟戊烷和Fe |
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| 搜索关键词： | 特异性 psma grpr 靶向 双模 显像 纳米 造影 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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