[发明专利]电容系统及其制备方法在审
| 申请号： | 202010631458.2 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN111825053A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 但强;陶泽;李杨 | 申请（专利权）人： | 瑞声科技（南京）有限公司 |
| 主分类号： | B81B5/00 | 分类号： | B81B5/00;B81B7/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 | 代理人： | 彭佳伟 |
| 地址： | 210093 江苏省南京市栖霞区仙林*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电容系统及其制备方法，电容系统包括依次层叠的第一晶圆、介质层、第一静电极层、动电极层和第二晶圆；所述动电极层包括设置在所述第一静电极层上的动电极块，所述动电极块与所述第一静电极层在竖直方向上分离，从而使得所述动电极块可相对于所述第一静电极层在水平方向上来回运动；所述动电极块上设有绝缘空腔，所述绝缘空腔将所述动电极块在水平方向上分隔。这种电容系统的层叠的动电极块与第一静电极层之间只发生水平方向上的相对运动，由于垂直方向上的变形刚度可以远大于水平方向，这就避免了动电极块与第一静电极层之间大位移下的相对碰撞，从而解决了基于梳齿结构的大位移碰撞可靠性问题。 | ||
| 搜索关键词： | 电容 系统 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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