[发明专利]检测装置、曝光装置和物品制造方法在审
| 申请号： | 202010622439.3 | 申请日： | 2020-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN112180696A | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | 山口涉 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 马景辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及检测装置、曝光装置和物品制造方法。提供了一种用于检测被布置在基板上的多个标记的检测装置。该装置包括支撑基板的台、被彼此分开地布置并且被配置为检测被布置在基板上的多个标记中的不同标记的多个检测器以及处理器。对于检测器的每个预定组合，处理器以根据关于每个检测器的检测区域位置和焦点位置的信息的倾斜度倾斜由台支撑的参考构件，并且将被布置在参考构件上的参考标记与每个检测器对准，并且处理器基于各自通过针对多个预定组合中的每一个预定组合执行的对准而获取的测量值来获得多个检测器中的每一个检测器的测量偏移值。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 装置 曝光 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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