[发明专利]检测装置、曝光装置和物品制造方法在审
| 申请号: | 202010622439.3 | 申请日: | 2020-07-01 |
| 公开(公告)号: | CN112180696A | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
| 发明(设计)人: | 山口涉 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00;G01B11/00 |
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 马景辉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 检测 装置 曝光 物品 制造 方法 | ||
1.一种检测装置,其特征在于,所述检测装置用于检测被布置在基板上的多个标记,所述检测装置包括:
台,所述台被配置为支撑所述基板并且能够改变所述基板的位置和取向;
多个检测器,所述多个检测器被彼此分开地布置并且被配置为检测被布置在由所述台支撑的所述基板上的所述多个标记中的不同标记;以及
处理器,所述处理器被配置为获得所述多个检测器中的每一个检测器的测量偏移值,
其中,对于从所述多个检测器中选择的检测器的多个预定组合中的每一个预定组合,所述处理器以根据关于每个检测器的检测区域位置和焦点位置的信息的倾斜度倾斜由所述台支撑的参考构件,并且将被布置在所述参考构件上的参考标记与每个检测器对准,以及
所述处理器基于各自通过针对所述多个预定组合中的每一个预定组合执行的对准而获取的测量值来获得所述多个检测器中的每一个检测器的测量偏移值。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述多个检测器中的每一个检测器的信息是通过在控制所述台使得所述参考标记位于所述多个检测器中的每一个检测器的检测区域和焦深内的同时执行所述参考标记的对准来预先获取的。
3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述处理器从各自通过针对所述多个预定组合中的每一个预定组合执行的对准而获取的测量值之间的差异获得所述多个检测器中的每一个检测器的测量偏移值。
4.根据权利要求1所述的装置,其中,所述倾斜度对应于连接各自表示每个检测器的检测区域位置和焦点位置的坐标点的线的一阶近似公式的倾斜度。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,
所述多个检测器包括第一检测器、第二检测器和第三检测器,
所述多个预定组合包括作为所述第一检测器与所述第二检测器的组合的第一组合、作为所述第二检测器与所述第三检测器的组合的第二组合以及作为所述第一检测器与所述第三检测器的组合的第三组合,以及
对于所述第一组合,所述处理器在以连接第一坐标点和第二坐标点的线的一阶近似公式的倾斜度倾斜所述参考构件的同时执行对准,所述第一坐标点表示所述第一检测器的检测区域位置和焦点位置,所述第二坐标点表示所述第二检测器的检测区域位置和焦点位置,并且所述处理器获取所述第一检测器的测量值和所述第二检测器的测量值,
对于所述第二组合,所述处理器在以连接所述第二坐标点和第三坐标点的线的一阶近似公式的倾斜度倾斜所述参考构件的同时执行对准,所述第三坐标点表示所述第三检测器的检测区域位置和焦点位置,并且所述处理器获取所述第二检测器的测量值和所述第三检测器的测量值,以及
对于所述第三组合,所述处理器在以连接所述第一坐标点和所述第三坐标点的线的一阶近似公式的倾斜度倾斜所述参考构件的同时执行对准,并且所述处理器获取所述第一检测器的测量值和所述第三检测器的测量值。
6.根据权利要求5所述的装置,其中,
所述多个预定组合还包括作为所述第一检测器、所述第二检测器和所述第三检测器的组合的第四组合,以及
对于所述第四组合,所述处理器获得使在所述第一检测器、所述第二检测器和所述第三检测器中的每一个检测器中的焦点位置和所述参考标记的表面高度之间的差异不大于可允许值的一阶近似公式,在以该一阶近似公式的倾斜度倾斜所述参考构件的同时执行对准,并且获取所述第一检测器的测量值、所述第二检测器的测量值和所述第三检测器的测量值。
7.一种曝光装置,其特征在于,所述曝光装置用于将基板曝光,所述曝光装置包括:
检测装置,所述检测装置在权利要求1中被定义并且被配置为检测被布置在所述基板上的多个标记;以及
控制器,所述控制器被配置为基于通过所述检测装置获得的由台支撑的所述基板上的所述多个标记的检测结果来控制所述基板的定位。
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