[发明专利]三维半导体存储器件在审
| 申请号: | 202010616669.9 | 申请日: | 2020-06-30 |
| 公开(公告)号: | CN112563281A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
| 发明(设计)人: | 黄盛珉;梁宇成;任峻成;金志荣;金智源 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
| 主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582;H01L23/48 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 李敬文 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 公开了一种三维半导体存储器件,该三维半导体存储器件包括:衬底,包括单元阵列区域和连接区域;堆叠,包括顺序地堆叠在衬底上的第一堆叠和第二堆叠,该堆叠在堆叠连接区域上具有阶梯结构,第一堆叠和第二堆叠中的每一个包括竖直地堆叠在衬底上的导电图案;以及接触插塞,设置在连接区域上并分别耦接至导电图案。每个接触插塞的底表面位于相应的导电图案的顶表面和底表面之间。在每个堆叠中,当从相应的导电图案的顶表面测量时,每个接触插塞的凹陷深度在导电图案的堆叠方向上单调变化。与第一堆叠的最上导电图案和第二堆叠的最下导电图案耦接的接触插塞具有离散的凹陷深度。 | ||
| 搜索关键词: | 三维 半导体 存储 器件 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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