[发明专利]一种用于彩膜基板的曝光方法在审
| 申请号： | 202010548294.7 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN111694188A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 兰沈凯;郭启好;刘杰;吴杰明 | 申请（专利权）人： | 信利（仁寿）高端显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G03F7/00;G03F1/00 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 刘春风 |
| 地址： | 620500 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种用于彩膜基板的曝光方法，包括步骤S1：提供一基底，在基底的上表面形成间隔的黑矩阵层，未设置黑矩阵层的区域为开口区域；步骤S2：在基底的开口区域上表面以及黑矩阵层的上表面覆盖一层负性的感光胶层；步骤S3：提供一上表面设有遮蔽层的掩膜版本体，将掩膜版本体形成在基底的下方，并遮蔽层朝向基底设置；步骤S4：从掩膜版本体的下方使用垂直于掩膜版平面的光束透过掩膜版本体未设置遮蔽层的区域并对所述感光胶层进行曝光，以通过包括显影的过程形成彩色滤光层。实施本发明，通过将掩膜版形成在基底的下表面，再利用基底上表面的黑矩阵层的遮光属性，从而消除了段差，降低了掩膜版本身的精度要求和曝光机的对位精度要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 彩膜基板 曝光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利（仁寿）高端显示科技有限公司，未经信利（仁寿）高端显示科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010548294.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
