[发明专利]一种用于彩膜基板的曝光方法

权利要求书

1.一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1：提供一基底，在基底的上表面形成间隔的黑矩阵层，未设置黑矩阵层的区域为开口区域；

步骤S2：在基底的开口区域上表面以及黑矩阵层的上表面覆盖一层负性的感光胶层；

步骤S3：提供一上表面设有遮蔽层的掩膜版本体，将掩膜版本体形成在基底的下方，并遮蔽层朝向基底设置；

步骤S4：从掩膜版本体的下方使用垂直于掩膜版平面的光束透过掩膜版本体未设置遮蔽层的区域并对所述感光胶层进行曝光，以通过包括显影的过程形成彩色滤光层。

2.如权利要求1所述的一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，所述彩膜基板包括基底、设置在基底上表面且间隔设置的黑矩阵层以及设置在黑矩阵层之间的彩色滤光层，其中彩色滤光层包括红色滤光层R、绿色滤光层G和蓝色滤光层B。

3.如权利要求1所述的一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，所述掩膜版包括掩膜版本体，所述掩膜版本体朝向彩膜基板的一侧设有遮蔽层使得掩膜版具有遮光区和透光区，所述遮光区和透光区间隔设置使彩色滤光层需曝光的位置与透光区对应。

4.如权利要求1所述的一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，在步骤S3与步骤S4之间，将所述掩膜版本体与基底之间放置一透明耐磨保护层，使掩膜版本体与基底之间通过透明耐磨保护层贴合放置。

5.如权利要求1所述的一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，在步骤S3与步骤S4之间，将所述掩膜版本体与曝光设备之间设置一距离，所述掩膜版本体与曝光设备之间通过透镜折射原理进行曝光。

6.如权利要求1所述的一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，所述黑矩阵层的透光率在万分之一以下。

7.如权利要求1所述的一种用于彩膜基板的曝光方法，其特征在于，所述步骤S4中还包括去除平坦层的制作和包括对隔垫物的制作。