[发明专利]一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法

摘要

本发明公开了一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法。步骤1：利用基于HSV颜色空间的仿射类方法，针对实体像素计算初级αHSV值，并为后续步骤提供实体像素的先验值；步骤2：利用初级αHSV值、直接搜索、间接搜索与拟合性约束，针对混合像素计算初级前景Fpre与背景Bpre，并为后续步骤提供α与前景的混合像素的先验值；步骤3：利用步骤1的α与前景的混合像素的先验值，并引入联合性Laplacian抠像矩阵与拟合性约束，同步求出最终的α*与前景值F；步骤4：利用步骤3最终的α*与前景值F与新背景B′合成图像I′。本发明采用搜索范围更远的KNN仿射类求解方法取代最近邻方法，以期获取空间距离更远的样本。