[发明专利]一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法

权利要求书

1.一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法，其特征在于，所述抠像方法包括以下步骤：

步骤1：利用基于HSV颜色空间的仿射类方法，针对实体像素计算初级α^HSV值，并为后续步骤提供实体像素的先验值；

步骤2：利用初级α^HSV值、直接搜索、间接搜索与拟合性约束，针对混合像素计算初级前景F^pre与背景B^pre，并为后续步骤提供α与前景的混合像素的先验值；

步骤3：利用步骤1的α与前景的混合像素的先验值，并引入联合性Laplacian抠像矩阵与拟合性约束，同步求出最终的α^*与前景值F；

步骤4：利用步骤3最终的α^*与前景值F与新背景B′合成图像I′。

2.根据权利要求1所述一种面向合成应用的多层次仿射类抠像方法，其特征在于，所述步骤1中针对实体像素计算初级α^HSV值具体为，

令每个像素i的特征为其中H_i、S_i和V_i分量为HSV空间的各通道，角度分量H_i需要归一化至[0，1]区间，x_i与y_i为归一化后的横坐标与纵坐标，权重分为与两级；在这两个搜索范围下，搜集10个最近邻样本j，搜集5个最近邻样本j，于是未知点i与样本j之间的权重为，

其中为特征X_i的第c个通道；

通过求解如下稀疏线性系统可求得该步骤的α^HSV：

(M^HSV+γD_α)α^HSV＝γb_α (3)

其中M^HSV为第i行的15个对应样本j的权重为w_ij的稀疏矩阵，其对角线为每行权重之和的负值；D_α为对角阵，Trimap对应的已知区域像素(Ω_F∪Ω_B)为1，其余为0；b_α为列向量，Ω_F处为1，其余为0；γ为一个较大的值，公式(3)在求解后，可将α^HSV在未知区域Ω_U内对应的实体前景与实体背景区域记为Ω_F′与Ω_B′，表述为，