[发明专利]一种耐高温减反光学膜及其制备方法和用途在审
| 申请号： | 202010532540.X | 申请日： | 2020-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN111690904A | 公开（公告）日： | 2020-09-22 |
| 发明（设计）人： | 谢黎明;赵朝阳;王新胜;宋志伟 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/58;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种耐高温减反光学膜及其制备方法和用途，所述方法包括以下步骤：对升华性材料和二氧化硅的混合膜，进行高温处理，得到具有纳米孔隙结构的二氧化硅膜。采用本发明的方法制备得到的减反光学膜可以降低反射率到0.3％以下，减反中心波长可在400nm‑1000nm范围调节，工作温度从0℃到1000℃，可用于高温应用场景下光学器件(如光学窗口、透镜、偏振镜片、滤光片等)的增透。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 耐高温 光学 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
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