[发明专利]半导体装置及其形成方法

摘要

本发明公开了一种半导体装置及其形成方法。半导体装置包括一基底、多个第一图案以及多个第二图案。多个第一图案与多个第二图案系设置在基底上，第一图案与第二图案相互平行且交替地沿着第一方向设置。第一图案与第二图案分别具有相对的第一侧与第二侧，各第一图案的第一侧具有一第一凸出部，各第二图案的第二侧具有一第二凸出部，且第一凸出部的面积不同于第二凸出部的面积。该半导体装置内的特定图案布局相对密集且尺寸相对微小，有利于配合后续组件的制作工艺，且提供充足的制作空间。