[发明专利]基于低功率受激发射损耗的超分辨成像方法及成像系统有效
| 申请号： | 202010500061.X | 申请日： | 2020-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN111579486B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 严伟;王璐玮;屈军乐;王佳林;张佳 | 申请（专利权）人： | 深圳大学 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01;G01N21/64 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 涂年影 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于低功率受激发射损耗的超分辨成像方法及成像系统。通过调整设置于第一光路中角反射器的位置延长损耗激光在第一光路中进行传播的光程，将低功率的高斯型损耗激光转换为环形损耗激光并与激发激光重合后聚焦照射样品，使采集到的荧光寿命数据中同时包含共聚焦信号和超分辨信号。通过数据处理从荧光信号中分离出共聚焦图像及初始超分辨图像，根据图像处理规则对共聚焦图像及初始超分辨图像进行分析处理后得到分辨率进一步提升的目标超分辨图像。通过上述方法，采用低功率的损耗激光减小了对生物样品的破坏，降低了荧光染料的光漂白效应，延长了超分辨成像的有效时间，可得到包含细微结构特征的高分辨率图像。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 功率 受激发射 损耗 分辨 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
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