[发明专利]用于测量表面形貌的设备和方法以及校准方法有效
申请号: | 202010494176.2 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN111595269B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | L.奥姆洛尔;C.格拉泽纳普 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司股份公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25;G01B21/04;G03B3/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 卢江;刘春元 |
地址: | 德国巴登-符*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 用于测量表面形貌的设备和方法以及校准方法。本发明涉及用于测量物体(12)的光学有效面(18)的形貌和/或梯度和/或曲率的方法和设备(10)。该设备(10)能够实现以能够贴靠在该物体(12)上的接触部(17)将该物体(12)安排在接收范围(14)内。在该设备(10)中具有提供光的多个点光源(20),该光被反射到安排在该接收范围(14)内的物体的待测量的面(18)上。该设备(10)具有至少一个相机(34),该相机具有物镜组件(40)和图像传感器(46)用于采集亮度分布,该亮度分布在图像传感器(46)上由点光源(20)的反射到该待测量的面(18)上的光引起。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 表面 形貌 设备 方法 以及 校准 | ||
【主权项】:
暂无信息
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