[发明专利]N(N≥20)基色光谱拟合目标光谱的优化方法有效

专利信息
申请号: 202010491224.2 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN111854951B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 韩秋漪;柳丝婉;李福生;张善端 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G01J3/12 分类号: G01J3/12;G01N21/01
代理公司: 上海正旦专利代理有限公司 31200 代理人: 王洁平
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种NN≥20)基色光谱拟合目标光谱的优化方法。本发明针对各列基色光谱相互影响的问题,利用半宽准确统计出每列光谱影响的其他基色光谱范围,在调节某列光谱时,同时协同调节峰值波长位于该列光谱半宽范围内的其他光谱,从而在提高准确率的同时最大程度地减少计算量,缩短了拟合时间,并提高了拟合精度,合成光谱满足一般显色指数Ra≥95,特殊显色指数R1~R15≥95,色温偏差ΔTc≤10 K的要求。
搜索关键词: 20 基色 光谱 拟合 目标 优化 方法
【主权项】:
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