[发明专利]一种用于芯片蚀刻上片机在审
| 申请号: | 202010433461.3 | 申请日: | 2020-05-21 |
| 公开(公告)号: | CN111564391A | 公开(公告)日: | 2020-08-21 |
| 发明(设计)人: | 李伟明 | 申请(专利权)人: | 广州冰钫商贸有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 510000 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本发明公开了一种用于芯片蚀刻上片机,其结构包括升降架、液压杆、夹取装置、固定台、机身,通过吻合装置对圆形芯片进行吻合夹取,吻合顶口根据圆形芯片的弧度大小进行伸缩顶合,将吻合杆向上顶入伸缩装置中,通过多个吻合顶口的配合,根据弧度将圆形芯片外壁四周进行夹取,防止在夹取过程中圆形芯片角度发生旋转,根据圆形芯片的规格,将不同弧度大小的弧形装置向下压动,使弧形装置中的弧形顶块向下收缩,且弧形顶块底部设有锯齿底杆,在向下收缩时,夹层向下压动缓冲杆,并且设有夹紧杆,增大了夹层与缓冲杆的摩擦力,减缓了圆形芯片下降卡合的速度,防止芯片下落过快导致芯片角度发生旋转,避免蚀刻错位。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 用于 芯片 蚀刻 上片 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





