[发明专利]单晶硅提拉用石英玻璃坩埚及其制备方法有效
| 申请号： | 202010401942.6 | 申请日： | 2020-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN111926381B | 公开（公告）日： | 2022-12-02 |
| 发明（设计）人： | 北原江梨子;岸弘史 | 申请（专利权）人： | 胜高股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/10 | 分类号： | C30B15/10;C30B29/06;C03B19/09;C03B20/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张桂霞;杨戬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在单晶硅的提拉工序中不仅使坩埚的整个外面确实地结晶化，而且防止结晶层的起泡剥离，由此提高坩埚的强度。石英玻璃坩埚(1)含有：由不含气泡的二氧化硅玻璃构成的透明层(11)、设置在透明层(11)的外侧且由含有大量气泡的二氧化硅玻璃构成的气泡层(12)、和设置在气泡层(12)的外侧且原料二氧化硅粉以半熔融状态烧结而得的外面半熔融层(13)。气泡层(12)含有由未添加铝的二氧化硅玻璃构成的内侧气泡层(12a)和设置在内侧气泡层(12a)的外侧且由添加铝的二氧化硅玻璃构成的添加Al的外侧气泡层(12b)，与添加Al的外侧气泡层(12b)接触的外面半熔融层(13)的至少一部分为添加铝的添加Al的半熔融层(13a)。添加Al的半熔融层(13a)中含有的铝的平均浓度为30ppm以上且95ppm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 单晶硅 提拉用 石英玻璃 坩埚 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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