[发明专利]一种用于X射线聚焦镜拼接干涉检测的点云配准拼接方法有效

专利信息
申请号: 202010391522.4 申请日: 2020-05-11
公开(公告)号: CN111623957B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 吴永前;廖伟彪;徐燕;刘源超;彭景 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01B11/24;G06T3/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于X射线聚焦镜拼接干涉检测的点云配准拼接方法。本发明首先对被测柱面镜进行子孔径划分,确定每个子孔径的大小和各个子孔径间的重叠区域;用干涉仪获取被测镜各个子孔径的面形信息后根据子孔径重叠区域面形的一致性,枚举并计算拼接方向误差范围内两个相邻子孔径重叠区域的残差;然后对残差进行平面拟合,拟合残差的均方根值最小时即为最佳点云配准;计算出所有相邻子孔径的最佳配准后,利用最小二乘法计算出刚体变换矩阵对子孔径进行位姿误差的补偿并完成面形拼接;本发明可保证在特征点提取困难且不借助其它精密设备的情况下仍有像素级的配准精度。
搜索关键词: 一种 用于 射线 聚焦 拼接 干涉 检测 点云配准 方法
【主权项】:
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