[发明专利]一种低氯高纯羧乙基锗倍半氧化物的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010374072.8 申请日: 2020-05-06
公开(公告)号: CN111574553B 公开(公告)日: 2023-01-20
发明(设计)人: 普世坤;谢天敏;朱知国;张东晟;许金斌;李庭安;吴王昌;李正美;赵娟;李长林;林作亮 申请(专利权)人: 云南临沧鑫圆锗业股份有限公司
主分类号: C07F7/30 分类号: C07F7/30;A61K31/28;A61P35/00;A61P1/04;A61P3/10;A61P9/12;A23L33/10;A61K8/58;A61Q19/00
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 董昆生
地址: 677000 云南省临沧市*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明涉及有机化合物制备技术领域,具体公开了一种低氯高纯羧乙基锗倍半氧化物的制备方法,包括将羧乙基锗倍半氧化物进行至少一次重结晶操作,具体步骤包括加热、溶解、冷却、结晶、过滤、洗涤、烘干,所述溶解过程中所使用的溶剂为去离子水、去离子水和食品级丙酮的混合物、去离子水和食品级乙醇的混合物中的一种,其中去离子水和食品级丙酮的体积比为1:1‑1.5;去离子水和食品级乙醇的体积比为1:0.5‑1.0,实施本发明的技术方案,使羧乙基锗倍半氧化物中的杂质成分,如氯离子、无机二氧化锗等的含量得到大幅降低,从而提高了羧乙基锗倍半氧化物的质量,使其纯度达到99.99%以上,氯离子含量小于50ug/g,满足了特殊客户用于生产化妆品、食品等方面的特殊要求。
搜索关键词: 一种 高纯 乙基 锗倍半 氧化物 制备 方法
【主权项】:
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