[发明专利]一种低成本辐射降温膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202010357879.0 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN111574732B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 沈伟 申请(专利权)人: 杭州净碳科技有限公司
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08L67/04;C08K13/02;C08K5/5419;C08K3/22;C08K3/36;C08L75/04;C08K3/34;C08K3/30;C08L27/16;C08L67/02;C08K3/26;C23C14/20;C23C14/24
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 陈升华
地址: 310000 浙江省杭州市钱*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种低成本辐射降温膜的制备方法,该制备方法包括:将高分子粉末、紫外线反射材料、填料和助剂混合均匀,再通过挤出流延得到紫外反射薄膜;将紫外反射薄膜进行真空镀铝,得到低成本辐射降温膜。本发明中,通过无溶剂流延膜和真空镀铝的方式,可便捷地采用现有镀铝膜工艺快速生产低成本辐射降温膜,具有极高的太阳光反射率和合适的厚度。同时,镀铝膜能够提供极高的可见光和近红外线反射功能。本发明制备的低成本辐射降温膜的高效率极高,并具有极高的太阳光反射率和半球发射率,应用该低成本辐射降温膜能够实现降温效果,具有良好的应用前景。
搜索关键词: 一种 低成本 辐射 降温 制备 方法
【主权项】:
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