[发明专利]一种低成本辐射降温膜的制备方法

权利要求书

1.一种低成本辐射降温膜的制备方法，其特征在于，所述的低成本辐射降温膜，采用以下重量份的原料：

高分子粉末 30~70份；

紫外线反射材料 20~60份；

填料 20~40份；

助剂 2~5份；

所述的高分子粉末为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚丁二酸丁二醇酯、聚乳酸、聚丙烯酸酯、聚氨酯弹性体、聚偏氟乙烯中的至少一种；

所述的紫外线反射材料为氧化锆、硅酸锆、氧化锑、硅酸铝钠、硫化锌、磷酸锌、磷酸锌钠中的至少一种，所述的紫外线反射材料的粒径为0.1~10μm；

所述的填料为二氧化硅、碳酸钙、氧化铝、硫酸钡中的至少一种，所述的填料的粒径为1~10μm；

所述的助剂为分散剂、抗菌剂、防霉剂中的至少一种；

所述的制备方法包括以下步骤：

将高分子粉末、紫外线反射材料、填料和助剂混合均匀，再通过挤出流延得到紫外反射薄膜；将紫外反射薄膜进行真空镀铝，得到低成本辐射降温膜。

2.根据权利要求1所述的低成本辐射降温膜的制备方法，其特征在于，所述的紫外反射薄膜的厚度为100~1000μm。

3.根据权利要求1所述的低成本辐射降温膜的制备方法，其特征在于，所述的真空镀铝的厚度为20~1000nm。

4.根据权利要求1所述的低成本辐射降温膜的制备方法，其特征在于，

所述的挤出流延的温度为150~300℃。

5.根据权利要求1所述的低成本辐射降温膜的制备方法，其特征在于，在低成本辐射降温膜上涂覆胶黏剂，固化后用离型膜进行保护，得到低成本辐射降温膜成品。