[发明专利]阵列式结构光图案投射装置在审
| 申请号： | 202010347065.9 | 申请日： | 2020-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN111458895A | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 蔡朝旭;廖宏荣;张颖岳;陈武立 | 申请（专利权）人： | 迪鹏光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 北京工信联合知识产权代理有限公司 11266 | 代理人： | 白晓晰 |
| 地址： | 中国台湾桃园市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提出一种阵列式结构光图案投射装置，是包含一绕射光学组、一绕射光学组件、一光源组、一基板、至少一光源晶片、至少一发光点组、至少一发光点、一绕射光点图案、一屏幕，其中，通过光源晶片上设置至少一发光点组，发光点组上更设置有至少一发光点，并将至少一光源晶片设置于基板上组成光源组，将绕射光学组件紧密排列组成绕射光学组，通过光源组发出的光线照射通过绕射光学组并于屏幕上呈现出绕射光点图案；特别要说的是，发光点组的数量与绕射光学组件在设置时的数量相同。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 结构 图案 投射 装置 | ||
【主权项】：
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