[发明专利]阵列式结构光图案投射装置

权利要求书

1.一种阵列式结构光图案投射装置，是包含:

一绕射光学组，包含多个绕射光学组件彼此紧密排列；

一光源组，包括至少一光源晶片，所述光源晶片上更具有至少一发光点组，所述发光点组是由至少一发光点组成，所述发光点发出一光线照射通过一绕射光学组件并投射出一绕射光点图案于一屏幕上；其特徵在于，所述光源组是由至少一光源晶片设置于一基板上，且所述光源晶片上的所述发光点组数量与所述绕射光学组件设置的数量相同。

2.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，所述绕射光点图案可为完全重迭、部分重迭、互相衔接或产生偏移。

3.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，相邻多个发光点组中心与中心间的一第一间隔距离大于与其相匹配多个绕射光学组件中心与中心间的一第二间隔距离，且相邻多个发光点组中的所述发光点排列方式需相同，用以加强所述发光点组所投射出来的所述绕射光点图案的亮度。

4.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，所述绕射光点图案可通过控制所述光源组的点亮时间，使所述绕射光点图案为全亮、部分亮或循序亮。

5.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，所述发光点的排列方式可为规则排列或不规则排列。

6.根据权利要求5所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，各所述发光点组中的所述发光点数目及设置位置可相同或相异。

7.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，所述绕射光学组之间更具有一不透明区域，用以遮挡溢出所述绕射光学组范围的所述光线。

8.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，所述绕射光学组件的排列方式至少为一方形排列、一矩形排列、一六角形排列、一三角形排列、一圆形排列或一不规则形排列的阵列式构型。

9.根据权利要求8所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，与所述绕射光学组件相匹配的所述发光点组，其设置的排列方式与所述绕射光源组件所呈现的构型相同。

10.根据权利要求1所述的阵列式结构光图案投射装置，其特徵在于，所述发光点为面射型雷射。