[发明专利]一种低温键合铝包铜材料及其使用工艺有效

专利信息
申请号: 202010318138.1 申请日: 2020-04-21
公开(公告)号: CN111490028B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 张卫红;唐宏浩;叶怀宇;张国旗 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: H01L23/52 分类号: H01L23/52;H01L21/768
代理公司: 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 代理人: 彭随丽
地址: 518055 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种低温键合铝包铜材料及其使用工艺,所述铝包铜材料i)核部分是铜,壳部分是铝;ii)核部分厚度尺寸在50nm~50um,壳部分厚度尺寸在5nm~5um。该材料通过施加超声和压力进行焊接。超声焊接的过程短,相比于加热烧结,大大节省封装的工时。氧化铝外层可以满足铜颗粒的抗氧化保护,无需特别外层抗氧化包覆,且可以在超声压力下,该氧化铝层破碎而暴露出新鲜的铝表面而实现铝‑铝结合,这个融合焊接可在较低加热温度甚至室温情况下实现颗粒间的融合。
搜索关键词: 一种 低温 键合铝包铜 材料 及其 使用 工艺
【主权项】:
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