[发明专利]一种低温键合铝包铜材料及其使用工艺有效
| 申请号: | 202010318138.1 | 申请日: | 2020-04-21 |
| 公开(公告)号: | CN111490028B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
| 发明(设计)人: | 张卫红;唐宏浩;叶怀宇;张国旗 | 申请(专利权)人: | 深圳第三代半导体研究院 |
| 主分类号: | H01L23/52 | 分类号: | H01L23/52;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙) 11888 | 代理人: | 彭随丽 |
| 地址: | 518055 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供了一种低温键合铝包铜材料及其使用工艺,所述铝包铜材料i)核部分是铜,壳部分是铝;ii)核部分厚度尺寸在50nm~50um,壳部分厚度尺寸在5nm~5um。该材料通过施加超声和压力进行焊接。超声焊接的过程短,相比于加热烧结,大大节省封装的工时。氧化铝外层可以满足铜颗粒的抗氧化保护,无需特别外层抗氧化包覆,且可以在超声压力下,该氧化铝层破碎而暴露出新鲜的铝表面而实现铝‑铝结合,这个融合焊接可在较低加热温度甚至室温情况下实现颗粒间的融合。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 低温 键合铝包铜 材料 及其 使用 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳第三代半导体研究院,未经深圳第三代半导体研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010318138.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。





