[发明专利]一种多层内衬壁等离子体处理装置及其工作方法在审
| 申请号： | 202010301502.3 | 申请日： | 2020-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN111370288A | 公开（公告）日： | 2020-07-03 |
| 发明（设计）人： | 杨平;彭帆 | 申请（专利权）人： | 上海稷以科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200240 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明技术方案公开了一种多层内衬壁等离子体处理装置及其工作方法，包括真空腔壁、安装于所述真空腔壁内侧壁上的多层内衬壁、固定于所述真空腔壁内的腔室中的载物台以及与所述载物台连接且水平地将腔室隔离为等立体产生腔室和真空腔室的隔离板，所述真空腔壁的顶部和底部分别设置进气口和抽气口，所述真空腔壁的底部安装有用于更换多层内衬壁的升降机构，所述升降机构连接至后台控制器。本发明通过在真空腔壁内设置可更换的多层内衬壁，并通过升降机构实现了在不破真空状态下的层内衬壁的更换，大幅度提高了等离子体处理装置的设备利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多层 内衬 等离子体 处理 装置 及其 工作 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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