[发明专利]一种多层内衬壁等离子体处理装置及其工作方法

权利要求书

1.一种多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，包括真空腔壁、安装于所述真空腔壁内侧壁上的多层内衬壁、固定于所述真空腔壁内的腔室中的载物台以及与所述载物台连接且水平地将腔室隔离为等立体产生腔室和真空腔室的隔离板，所述真空腔壁的顶部和底部分别设置进气口和抽气口，所述真空腔壁的底部安装有用于更换多层内衬壁的升降机构，所述升降机构连接至后台控制器。

2.根据权利要求1所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述升降机构包括安装于所述真空腔壁上用于托载所述多层内衬壁的第一升降机构以及，安装于所述真空腔壁底部的用于更换所述多层内衬壁的第二升降机构。

3.根据权利要求2所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述第一升降机构为伸缩泵，所述伸缩泵的伸缩泵轴贯穿所述真空腔壁并位于所述多层内衬壁的底部，所述伸缩泵轴与所述隔离板接触。

4.根据权利要求3所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述第二升降机构为气缸，所述气缸的气缸轴的端部固定有托盘，所述气缸的初始状态为伸出状态，伸出状态下的所述气缸轴端部的所述托盘位于所述伸缩泵轴下方。

5.根据权利要求3所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述多层内衬壁的层数与所述多层内衬壁的厚度成正比，所述多层内衬壁的层数与所述伸缩泵轴贯穿所述真空腔壁处至所述隔离板之间的距离成正比。

6.根据权利要求4所述的多层内衬壁等离子体处理装置，其特征在于，所述多层内衬壁的厚度等于或小于所述隔离板与所述真空腔壁之间的距离，所述托盘的径向宽度大于或等于所述隔离板与所述真空腔壁之间的距离。

7.一种多层内衬壁等离子体处理装置的工作方法，其特征在于，所述工作方法如下：

当需要替换新的多层内衬壁时，第一升降机构收缩，多层内衬壁掉落到托盘上，第二升降机构收缩，托盘下降直至多层内衬壁掉落至隔离板下方，第一升降机构回弹并靠近隔离板，多层内衬壁替换完成。