[发明专利]基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统在审
| 申请号： | 202010290425.6 | 申请日： | 2020-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN111399346A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 张宗昕;冷雨欣;王成;程欣;王关德;孙海轶;彭宇杰;王雪培 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种基于等离子体约束的LPP‑EUV光源系统，包括泵浦激光脉冲源、带有光学窗片的真空室、凸透镜、靶材、磁镜装置和椭球面镜。由泵浦激光脉冲源产生泵浦激光脉冲，泵浦激光脉冲通过光学窗片进入真空室，再经凸透镜聚焦而作用于靶材。泵浦激光脉冲作用于靶材而产生等离子体，等离子体被约束在磁镜装置中而产生EUV辐射，所产生的EUV辐射经椭球面镜反射而聚焦。本发明利用磁镜装置中非均匀磁场对等离子体的约束作用，提升LPP‑EUV光源的功率输出能力并抑制LPP所产生的碎屑污染，从而保障EUV光刻系统的高效稳定运行。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 等离子体 约束 lpp euv 光源 系统 | ||
【主权项】：
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