[发明专利]基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统在审
| 申请号： | 202010290425.6 | 申请日： | 2020-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN111399346A | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 张宗昕;冷雨欣;王成;程欣;王关德;孙海轶;彭宇杰;王雪培 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 等离子体 约束 lpp euv 光源 系统 | ||
1.一种基于等离子体约束的LPP-EUV光源系统，其特征在于，包括泵浦激光脉冲源(1)、带有光学窗片(2)的真空室(3)、凸透镜(4)、靶材(5)、磁镜装置(6)和椭球面镜(7)，所述的磁镜装置(6)由第一载流线圈(601)和第二载流线圈(602)构成，所述的凸透镜(4)、靶材(5)、磁镜装置(6)和椭球面镜(7)置于所述的真空室(3)内，所述的椭球面镜(7)与所述的凸透镜(4)共轴，且所述的椭球面镜(7)的第一焦点与所述的凸透镜(4)的焦点重合于(O1)处，所述的靶材(5)置于所述的椭球面镜(7)的第一焦点(O1)处，沿所述的泵浦激光脉冲源(1)产生的泵浦激光脉冲(L1)方向依次是所述的真空室(3)的光学窗片(2)、凸透镜(4)、所述的第一载流线圈(601)、靶材(5)和第二载流线圈(602)；
由所述的泵浦激光脉冲源(1)产生的泵浦激光脉冲(L1)通过所述的光学窗片(2)进入所述的真空室(3)，再经所述的凸透镜(4)聚焦而作用于所述的靶材(5)，所述的泵浦激光脉冲(L1)作用于靶材(5)而产生等离子体，该等离子体被约束在所述的第一载流线圈(601)和第二载流线圈(602)之间并产生EUV辐射(L2)，所产生的EUV辐射(L2)经所述的椭球面镜(7)反射而聚焦于椭球面镜(7)的第二焦点(O2)处。
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