[发明专利]一种展馆设计光照条件模型系统有效
| 申请号： | 202010257360.5 | 申请日： | 2020-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN111402409B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 朱彦鑫;孙皓 | 申请（专利权）人： | 湖北工业大学 |
| 主分类号： | G06T17/00 | 分类号： | G06T17/00;G06T15/50;G06Q30/06 |
| 代理公司： | 郑州芝麻知识产权代理事务所(普通合伙) 41173 | 代理人： | 董晓勇 |
| 地址： | 430068 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种展馆设计光照条件模型系统，包括空间识别模块、获取模块、预设模块、点光源生成模块、点光源选择模块、灯具匹配模块、灯光模拟模块、灯饰存储模块。通过把展馆方要求的灯光效果在三维空间中进行预设，然后在基于WebGL构建的三维模型中找出点光源，通过人工智能识别系统匹配出灯具的类型，并在选出的点光源上利用三维发光模型进行灯光模拟，根据模拟的效果对灯具进行调整，最后根据展馆设计风格推荐合适的灯饰。该展馆光照条件模型系统使用方便，设计师在进行照明设计时，可以直接根据展馆方的需求选择光源，从而使照明效果更加符合展览方的期望，展馆方也可以不用聘请专业人员就能选择出合适的灯饰。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 展馆 设计 光照 条件 模型 系统 | ||
【主权项】：
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