[发明专利]一种半导体芯片生产制备系统的光刻术结构

摘要

本发明公开了一种半导体芯片生产制备系统的光刻术结构，是由第一平面固定反射镜、第一凹曲面固定反射镜、第一凸曲面固定反射镜、第二平面固定反射镜、第一平面X方向上下步进反射镜、第一平面X方向斜向步进反射镜、第一平面Y方向水平步进反射镜共七个光学反射镜组成，通过步进光学反射镜组合的移动器件作为反射镜组，这些反射镜组的尺寸仅约需要比每次聚焦曝光面积约5X5～26X33毫米平方区域稍大即可，大幅减轻移动器件的质量，节省器件移动所需之水电气功率消耗，节省机台拥有成本；本发明光刻术结构部分是整机结构特征不可或缺的一个技术特征点，是对现有技术一次扩展性的技术创新，具有很好的推广和使用价值。