[发明专利]磁头以及磁记录装置有效

专利信息
申请号: 202010170190.7 申请日: 2020-03-12
公开(公告)号: CN112466341B 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 高岸雅幸;成田直幸;前田知幸;岩崎仁志;首藤浩文;永泽鹤美 申请(专利权)人: 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社
主分类号: G11B11/105 分类号: G11B11/105
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 万利军;段承恩
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供能提高记录密度的磁头及磁记录装置。磁头包括磁极、第1屏蔽件、第1磁性层~第3磁性层及第1中间层~第4中间层。第1磁性层~第3磁性层分别设置在磁极与第1屏蔽件之间、第1磁性层与第1屏蔽件之间、第2磁性层与第1屏蔽件之间。第1中间层设置在磁极与第1磁性层之间,包含选自由Au、Cu、Ag、Al以及Ti构成的第1组的至少一种。第2中间层设置在第1磁性层与第2磁性层之间,包含选自由Ta、Ir、W、Mo、Cr、Tb、Rh以及Pd构成的第2组的至少一种。第3中间层设置在第2磁性层与第3磁性层之间,包含选自第1组的至少一种。第4中间层设置在第3磁性层与第1屏蔽件之间,包含选自第2组的至少一种。
搜索关键词: 磁头 以及 记录 装置
【主权项】:
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