[发明专利]磁头以及磁记录装置有效
| 申请号: | 202010170190.7 | 申请日: | 2020-03-12 |
| 公开(公告)号: | CN112466341B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
| 发明(设计)人: | 高岸雅幸;成田直幸;前田知幸;岩崎仁志;首藤浩文;永泽鹤美 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝电子元件及存储装置株式会社 |
| 主分类号: | G11B11/105 | 分类号: | G11B11/105 |
| 代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 万利军;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁头 以及 记录 装置 | ||
1.一种磁头,具备:
磁极;
第1屏蔽件;
第1磁性层,其设置在所述磁极与所述第1屏蔽件之间;
第2磁性层,其设置在所述第1磁性层与所述第1屏蔽件之间;
第3磁性层,其设置在所述第2磁性层与所述第1屏蔽件之间;
第1中间层,其设置在所述磁极与所述第1磁性层之间,包含选自由Au、Cu、Ag、Al以及Ti构成的第1组的至少一种;
第2中间层,其设置在所述第1磁性层与所述第2磁性层之间,包含选自由Ta、Ir、W、Mo、Cr、Tb、Rh以及Pd构成的第2组的至少一种;
第3中间层,其设置在所述第2磁性层与所述第3磁性层之间,包含选自所述第1组的至少一种;以及
第4中间层,其设置在所述第3磁性层与所述第1屏蔽件之间,包含选自所述第2组的至少一种,
在包括所述第1磁性层、所述第2磁性层以及所述第3磁性层的层叠体中流动了具有从所述第1磁性层朝向所述第3磁性层的第1方向的第1电流时,所述层叠体具有第1电阻,
在所述层叠体中流动了具有所述第1方向的第2电流时,所述层叠体具有第2电阻,所述第2电流比所述第1电流大,
在所述层叠体中流动了具有所述第1方向的第3电流时,所述层叠体具有第3电阻,所述第3电流比所述第2电流大,
所述第2电阻比所述第1电阻高,且比所述第3电阻高。
2.根据权利要求1所述的磁头,
所述第1磁性层具有第1饱和磁通密度和沿着从所述磁极朝向所述第1屏蔽件的第1方向的第1厚度,
所述第2磁性层具有第2饱和磁通密度和沿着所述第1方向的第2厚度,
所述第1饱和磁通密度与所述第1厚度的第1积,比所述第2饱和磁通密度与所述第2厚度的第2积小。
3.根据权利要求2所述的磁头,
所述第3磁性层具有第3饱和磁通密度和沿着所述第1方向的第3厚度,
所述第1积比所述第3饱和磁通密度与所述第3厚度的第3积大。
4.根据权利要求1所述的磁头,
所述第1中间层与所述第1磁性层相接,
所述第2中间层与所述第1磁性层以及所述第2磁性层相接,
所述第3中间层与所述第2磁性层以及所述第3磁性层相接,
所述第4中间层与所述第3磁性层相接。
5.根据权利要求4所述的磁头,
所述第1中间层与所述磁极相接。
6.根据权利要求5所述的磁头,
所述第4中间层与所述第1屏蔽件相接。
7.一种磁记录装置,具备:
权利要求1所述的磁头;和
通过所述磁头被记录信息的磁记录介质。
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