[发明专利]一种钕铁硼永磁器件表面涂层设备及表面涂层方法在审

专利信息
申请号: 202010161104.6 申请日: 2020-03-10
公开(公告)号: CN111218655A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 孙昊天;陈晓东;杨威力;于勇波;裴宏伟 申请(专利权)人: 沈阳中北真空设备有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/58
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 110168 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明公开了一种钕铁硼永磁器件的表面涂层设备和涂层方法。该设备主要包括进料阀门、进料室、进料隔离阀门、真空镀膜室、出料隔离阀门、出料室、出料阀门、溅射装置、承载装置。溅射装置至少包括离子源、多弧靶、磁控溅射靶和射频溅射靶中的2种以上组合而成,溅射装置为3台以上,溅射装置中包含的靶材至少为选自Tb、Dy、Nd、Pr、Y、Nb、Al、Ti、Zr、Ni、Cr中的一种以上。工作时,需要涂层的钕铁硼永磁器件置于承载装置上在传送辊上移动并顺序通过进料阀门、进料室、进料隔离阀门、真空镀膜室、出料隔离阀门、出料室、出料阀门;置于承载装置上的钕铁硼永磁器件在真空镀膜室内进行涂层。
搜索关键词: 一种 钕铁硼 永磁 器件 表面 涂层 设备 方法
【主权项】:
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