[发明专利]应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及结构形貌一致性的方法在审
申请号: | 202010142334.8 | 申请日: | 2020-03-04 |
公开(公告)号: | CN111257263A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 胡丹静;刘晋华;方诗彬;严雪俊;严俊 | 申请(专利权)人: | 浙江方圆检测集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/33 | 分类号: | G01N21/33;G01N21/47 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 贾玉霞 |
地址: | 310018 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开一种应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及结构形貌一致性的方法,通过对珍珠表面不同位置处进行紫外可见漫反射光谱的检测采集,并基于谱图的一致性即相似度进而判断珍珠外层组织结构单元即珍珠层化学组成、内部结构及外表面结构形貌一致性。本发明所述的鉴别方法准确、无损、快速,可为珍珠的改色处理、质量等级定性提供便捷、适用的评判性依据与指导。 | ||
搜索关键词: | 应用 紫外 可见 漫反射 光谱 鉴别 珍珠 表层 化学 组成 结构 形貌 一致性 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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