[发明专利]应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及结构形貌一致性的方法在审
| 申请号: | 202010142334.8 | 申请日: | 2020-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN111257263A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
| 发明(设计)人: | 胡丹静;刘晋华;方诗彬;严雪俊;严俊 | 申请(专利权)人: | 浙江方圆检测集团股份有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/33 | 分类号: | G01N21/33;G01N21/47 |
| 代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 贾玉霞 |
| 地址: | 310018 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 应用 紫外 可见 漫反射 光谱 鉴别 珍珠 表层 化学 组成 结构 形貌 一致性 方法 | ||
1.一种应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及结构形貌一致性的方法,其特征在于,所述的珍珠的类型包括有核与无核珍珠,该方法包括如下步骤:
S1:选取待测样品过球心的至少两个圆面,每个圆面选取不少于三个检测点,对待检样品进行紫外可见漫反射光谱检测,获得待测样品上的所有测试点的光谱图,所述的光谱图的横坐标为波长,其记录范围为200-1000nm,纵坐标为反射率;对同一个待测样品的不同检测点进行光谱检测过程中保持样品的参比光谱相同;
S2:判断待测样品的紫外可见漫反射谱图中200-800nm范围内所有检测点的谱线形状是否一致,即各测试点对应的所有吸收峰、反射峰均能一一对应出现,若为否,则直接认定该珍珠的化学组成与结构形貌一致性较差,评价等级为差;若为是,则继续S3;
S3:判断是否所有检测点的谱线间相对应的吸收峰或反射峰的最大峰位的差值d皆满足d≤30nm,若为否,则直接判断该珍珠的化学组成与结构形貌一致性较差,评价等级为差;若为是,则继续S4;
S4:判断是否所有检测点的谱线间相对应的吸收峰或反射峰的最大峰位的差值d均满足d≤10nm,若为否,则该珍珠的化学组成与结构形貌基本一致,评价等级为合格;若为是,则继续S5;
S5:判断是否所有检测点的谱线间相对应的吸收峰或反射峰的最大强度差h皆满足h≤对应最大反射峰或最大吸收峰的强度的1/3,若为否,则判断该珍珠的化学组成与结构形貌具有较好的一致性,评价等级为良;若为是,则判定该珍珠的化学组成与结构形貌具有很好的一致性,评价等级为优。
2.根据权利要求1所述的应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及形貌结构一致性的方法,其特征在于,所述的S1中的待测样品上选取的过球心的圆面为2~3个。
3.根据权利要求2所述的应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及形貌结构一致性的方法,其特征在于,所述的S1中的待测样品上选取的过球心的圆面优选为3个。
4.根据权利要求1所述的应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及形貌结构一致性的方法,其特征在于,所述的S1中的待测样品上每个圆面上选取的检测点为3~5个。
5.根据权利要求4所述的应用紫外可见漫反射光谱鉴别珍珠表层的化学组成及形貌结构一致性的方法,其特征在于,所述的S1中的待测样品上每个圆面上选取的检测点优选为4个。
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