[发明专利]预处理方法及系统、掩膜版的制造方法、设备、存储介质在审
| 申请号： | 202010130432.X | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN113326601A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 李传 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F30/392;G06F30/398;G03F7/20;G06F115/06;G06F119/18 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 高静 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种预处理方法及系统、掩膜版的制造方法、设备、存储介质，预处理方法适于在对掩膜基板进行电子束曝光之前，利用测试掩膜基板建立尺寸偏差量的数据库，包括：设计参考版图，包括多个单元区，每一个单元区中具有多个标准图形，至少有两个所述单元区的图形密度不同，且标准图形具有预设关键尺寸；将标准图形转移至测试掩膜基板上，在测试掩膜基板上形成与标准图形相对应的测试掩膜图形；获取测试掩膜图形的实际关键尺寸；计算每一个所述单元区中，每一个所述测试掩膜图形的实际关键尺寸与相对应的所述标准图形的预设关键尺寸的差值，所述差值用于作为尺寸偏差量。本发明有利于提高掩膜版上的掩膜图形的尺寸精度。 | ||
| 搜索关键词： | 预处理 方法 系统 掩膜版 制造 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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