[发明专利]定位系统、定位方法及干涉仪的验证方法

摘要

本发明提供一种定位系统、定位方法和干涉仪的验证方法，所述定位系统包括：照明单元、遮光件、反光件、第一探测器和调焦调平单元。所述照明单元提供的光束经遮光件遮挡，在物镜的像面上形成一暗斑，所述暗斑中心位于物镜的中心光轴上，所述第一探测器检测暗斑中心的水平方向坐标以作为第一位置坐标。所述调焦调平单元的投影件发射出多个光斑，光斑投射于反光件上并经反光件反射形成反射光斑，所述第二探测器接收反射光斑并获取每一光斑的坐标以作为第二位置坐标，从而定位所述调焦调平单元。由此解决光刻机在曝光显影后的关键尺寸与垂向控制理论值存在偏差的问题，改善光刻机的垂向控制性能，提升前道光刻机的曝光成像效果，提高产品的良率。