[发明专利]一种紧缩场反射面边齿及设计方法有效

专利信息
申请号: 202010081167.0 申请日: 2020-02-06
公开(公告)号: CN111208359B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 姜涌泉;莫崇江;孔德旺 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: G01R29/08 分类号: G01R29/08
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 周娇娇
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种紧缩场反射面边齿及设计方法,该方法包括:确定所需紧缩场反射面静区尺寸及工作频率,并设计至少三种具有不同类型边齿的反射面;对各反射面分别进行仿真,并在其静区前、中、后三个位置分别得到幅度和相位的仿真数据,进而确定各反射面之中静区纵向一致性最佳的反射面及静区横向一致性最佳的反射面;结合静区纵向一致性最佳的反射面及静区横向一致性最佳的反射面的边齿类型设计优化反射面,并确定其边齿的各项可调节参数;对于优化反射面边齿的各项可调节参数分别进行优化,得到优化反射面边齿的具体数值。本发明能够减小反射面边缘对静区性能的影响,提高待测目标电磁特性测试的准确性。
搜索关键词: 一种 紧缩 反射 面边齿 设计 方法
【主权项】:
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