[发明专利]一维测量机和记录介质在审

专利信息
申请号: 202010079659.6 申请日: 2020-02-04
公开(公告)号: CN111521090A 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 藤原秀朗;金松敏裕 申请(专利权)人: 株式会社三丰
主分类号: G01B5/02 分类号: G01B5/02;G01B5/008
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种一维测量机和记录介质。实现了二维坐标测量时的作业性的提高。一维测量机通过针对测量对象物的各测量要素测量一维坐标,并在使测量对象物沿规定方向旋转规定角度后,针对旋转后的测量对象物的各测量要素测量一维坐标,由此实现测量对象物的多个测量要素中的各测量要素的二维坐标的测量,其特征在于,具备:显示部;显示控制单元,基于第一输入信息使显示部显示测量对象物内的多个测量要素中的各测量要素的大致配置和测量顺序,基于第二输入信息使显示部显示以维持各测量要素的位置关系的状态将配置整体沿规定方向旋转规定角度后的多个测量要素中的各测量要素的配置和测量顺序;以及输入部,受理第一输入信息和第二输入信息的输入。
搜索关键词: 测量 记录 介质
【主权项】:
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