[发明专利]一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材及其制备方法有效
| 申请号： | 202010047056.8 | 申请日： | 2020-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN111233480B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;边逸军;王学泽;马国成 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/565 | 分类号： | C04B35/565;C04B35/52;C04B35/645;C23C14/34;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材及其制备方法。所述制备方法包括：(1)将碳粉、碳化硅粉和粘结剂按照比例混合，并进行筛分处理；(2)将步骤(1)筛分后的混合粉末装入模具并用工具夯实；(3)对步骤(2)夯实后的模具在1850‑2200℃进行热压烧结处理，得到碳和碳化硅陶瓷溅射靶坯；(4)将步骤(3)得到的碳和碳化硅陶瓷溅射靶坯进行机加工，得到碳和碳化硅陶瓷溅射靶材。所述制备方法不仅工艺流程简单、生产周期短，还可使制备得到的碳和碳化硅陶瓷溅射靶材的致密度≥98％、纯度≥3N、吸水率＜0.1％、电阻率＜0.15Ω·m，满足了碳和碳化硅陶瓷溅射靶材对致密度和成型性的要求，为后续溅射使用提供更优良的性能保障。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碳化硅 陶瓷 溅射 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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