[发明专利]一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种碳和碳化硅陶瓷溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

（1）将碳粉、碳化硅粉和粘结剂按照比例混合，并进行筛分处理；所述碳粉和碳化硅粉满足C（at%）=60-90%的原子比例，所述粘结剂包括甘油、乙二醇、1,2-丁二醇或1,3-丁二醇中的任意一种或至少两种的混合物，所述粘结剂的添加量为碳粉和碳化硅粉总质量的1-5%；

（2）将步骤（1）筛分后的混合粉末装入模具并用工具夯实；

（3）将步骤（2）夯实后的模具在1850-2200℃进行热压烧结处理，得到碳和碳化硅陶瓷溅射靶坯；

（4）将步骤（3）得到的碳和碳化硅陶瓷溅射靶坯进行机加工，得到碳和碳化硅陶瓷溅射靶材。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述粘结剂为甘油。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述混合在惰性气体保护下进行。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体包括氦气、氖气或氩气中的任意一种或至少两种的组合。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述混合的时间为10-40h。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述混合的时间为20-32h。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述混合在滚坛机中进行。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述滚坛机的滚动速率为5-30r/min。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述滚坛机的滚动速率为10-20r/min。

11.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述混合包括停机、晃动、敲打处理。

12.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述停机的间隔时间为6-10h。

13.根据权利要求12所述的制备方法，其特征在于，所述停机的间隔时间为7-8h。

14.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述晃动为晃动所述滚坛机上的混粉罐。

15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于，所述敲打为敲打所述混粉罐的外壁。

16.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述敲打采用橡胶锤。

17.根据权利要求11所述的制备方法，其特征在于，所述敲打持续时间为3-10min。

18.根据权利要求17所述的制备方法，其特征在于，所述敲打持续时间为5-8min。

19.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于，在步骤（1）所述混合前还包括清洗步骤。

20.根据权利要求19所述的制备方法，其特征在于，所述清洗是将所述混粉罐清洗干净，以保证混粉罐内无污染。

21.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤（1）所述筛分的筛孔尺寸为30-150目。