[发明专利]光源设备、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法在审
| 申请号： | 202010034430.0 | 申请日： | 2020-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN111503533A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 大阪昇;大枝洋一 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | F21K9/20 | 分类号： | F21K9/20;F21V5/04;F21V14/06;F21V19/00;G03F7/20;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宋岩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及光源设备、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法。使用包括发光二极管(LED)阵列的光源设备将照射目标平面上的光强度分布调整为期望分布。包括其中布置有多个LED芯片的LED阵列并且在预定平面上形成通过叠加来自多个LED芯片的光的光强度分布而获得的光强度分布的光源设备包括一对透镜阵列，这一对透镜阵列包括被配置为收集来自多个LED芯片的光的多个透镜，其中这一对透镜阵列之间的距离被改变，从而改变要在预定平面上形成的光强度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 设备 照明 装置 曝光 用于 制造 物品 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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