[发明专利]光源设备、照明装置、曝光装置和用于制造物品的方法

权利要求书

1.一种光源设备，所述光源设备包括其中布置有多个发光二极管LED芯片的LED阵列并且在预定平面上形成通过叠加来自所述多个LED芯片的光的光强度分布而获得的光强度分布，所述光源设备包括：

一对透镜阵列，所述一对透镜阵列包括被配置为收集来自所述多个LED芯片的光的多个透镜，

其中所述一对透镜阵列之间的距离被改变，从而改变要在所述预定平面上形成的光强度分布。

2.如权利要求1所述的光源设备，其中所述一对透镜阵列之间的距离被改变，从而改变要在所述预定平面上形成的光强度分布的峰值的位置。

3.如权利要求1所述的光源设备，其中所述一对透镜阵列之间的距离被改变，从而在包括光轴的中心区域中具有峰值的第一光强度分布与在不包括光轴的外部区域中具有峰值的第二光强度分布之间改变光强度分布。

4.如权利要求1所述的光源设备，其中所述一对透镜阵列中的位于更靠近所述LED阵列的一侧上的一个透镜阵列被移动，从而改变所述一对透镜阵列之间的距离。

5.如权利要求1所述的光源设备，还包括被配置为移动透镜阵列的驱动单元。

6.如权利要求1所述的光源设备，

其中透镜阵列包括被配置为收集来自所述LED阵列的第一LED阵列的光的第一透镜阵列以及被配置为收集来自所述LED阵列的第二LED阵列的光的第二透镜阵列，以及

其中所述第一透镜阵列和所述第二透镜阵列中的至少一个是可移动的。

7.如权利要求6所述的光源设备，还包括被配置为单独控制所述第一LED阵列的输出和所述第二LED阵列的输出的控制单元。

8.一种照明装置，包括：

光源设备，所述光源设备包括其中布置有多个LED芯片的LED阵列并且在预定平面上形成通过叠加来自所述多个LED芯片的光的光强度分布而获得的光强度分布；以及

光学系统，所述光学系统被配置为使用来自所述光源设备的光对照明目标平面进行照明，

其中所述光源设备包括一对透镜阵列，在所述一对透镜阵列中提供有被配置为收集来自所述多个LED芯片的光的透镜，并且所述一对透镜阵列之间的距离是可改变的以改变要在所述预定平面上形成的光强度分布。

9.如权利要求8所述的照明装置，还包括被配置为改变照明模式的控制单元，其中所述光源设备的所述一对透镜阵列之间的距离根据所述照明模式的改变而改变。

10.如权利要求8所述的照明装置，还包括被配置为测量所述照明装置的光瞳平面上的光瞳强度分布的测量仪器，其中所述光源设备的所述一对透镜阵列之间的距离基于由所述测量仪器测量的光瞳强度分布而改变。

11.如权利要求8所述的照明装置，还包括：

聚光透镜；以及

光学积分器，

其中使用来自所述光源设备的光通过所述聚光透镜在所述光学积分器的入射表面上形成通过叠加来自所述光源设备的所述多个LED芯片的光的光强度分布而获得的光强度分布。

12.如权利要求11所述的照明装置，其中所述光学积分器包括透镜组。

13.一种对基板进行曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：

如权利要求8至12中的任一项所述的照明装置，所述照明装置被配置为对掩模进行照明；以及

曝光单元，所述曝光单元被配置为在所述基板上对所述掩模的图案进行曝光。

14.如权利要求13所述的曝光装置，其中所述光源设备的所述一对透镜阵列之间的距离基于所述图案的成像特性而改变。

15.一种用于制造物品的方法，所述方法包括：

使用如权利要求13所述的曝光装置来对基板进行曝光；以及

对经曝光的基板进行显影，

其中物品是从经显影的基板获得的。