[发明专利]一种紫外纳米压印用光刻胶组合物及其制备与应用

摘要

本发明公开了一种紫外纳米压印用光刻胶组合物及其制备与应用。该光刻胶可用于紫外纳米压印，含有可降低光聚合过程中的体积收缩及赋予聚合物降解特性的可光聚合二硫化合物，第二可光聚合单体及光引发剂，本发明的光刻胶组合物中的可光聚合二硫化合物可以显著降低光刻胶在紫外纳米压印过程中因光聚合造成的体积收缩，提供优异的紫外纳米压印图形质量；且紫外光固化后可以在还原性条件下降解，便于压印模板的清洗；此外该光刻胶粘度低，便于压印工艺操作，形成的聚合物膜具有良好的物理力学性能。