[发明专利]一种紫外纳米压印用光刻胶组合物及其制备与应用

权利要求书

1.一种紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，该光刻胶组合物由可光聚合二硫化合物、第二可光聚合单体和光引发剂组成；

以所述光刻胶组合物的总质量为100％，其中所述可光聚合二硫化合物为5wt.％-20wt.％，第二可光聚合单体为75wt.％-94.9wt.％，光引发剂为0.1wt.％-5wt.％；

所述可光聚合二硫化合物的结构式如式a所示：

其中R₁和R₂相同，为-CH₂-、

当R₁和R₂为-CH₂-时，n₁和n₂独立地取自1～10；

当R₁和R₂为时，n₁与n₂同时为1；

所述第二可光聚合单体为甲基丙烯酸酯和丙烯酸异冰片酯的组合，甲基丙烯酸酯和丙烯酸异冰片酯的质量比为9:1-1:9；

所述光刻胶组合物的粘度不超过5mPa·s；

所述光刻胶组合物紫外光固化后在还原剂组合物的作用下发生降解而溶于一定量有机溶剂，使得在紫外纳米压印中，所述光刻胶组合物紫外光固化后剥离模板，之后使用有机溶剂和还原剂组合物清洗模板，以降解溶解模板上残留光刻胶；

所述还原剂组合物选自三丁基膦/H₂O、锌粉/稀盐酸或谷胱甘肽/H₂O；所述有机溶剂选自N,N-二甲基甲酰胺、丙酮、四氢呋喃、乙酸乙酯、二氯甲烷和三氯甲烷中的一种或两种以上的组合。

2.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述甲基丙烯酸酯和丙烯酸异冰片酯的质量比为7:3。

3.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述光引发剂选自苯偶姻类、安息香醚类、苯偶酰类、苯乙酮衍生物类、α-羟基酮衍生物类、α-氨基酮衍生物类、苯甲酸甲酰酯类、酰基膦氧化物、二苯甲酮及其衍生物类和硫杂蒽酮及其衍生物类的光引发剂一种或两种以上的组合。

4.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮。

5.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述三丁基膦/H₂O的体积比为1:1，所述锌粉/稀盐酸的体积比为1:1，所述谷胱甘肽/H₂O的体积比为1:1。

6.根据权利要求1所述的紫外纳米压印用光刻胶组合物，其特征在于，所述还原剂组合物为三丁基膦/H₂O；所述有机溶剂为N,N-二甲基甲酰胺。

7.权利要求1-6任一项所述紫外纳米压印用光刻胶组合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将可光聚合二硫化合物、第二可光聚合单体和光引发剂按照比例混合，得到所述紫外纳米压印用光刻胶组合物。

8.权利要求1-6任一项所述紫外纳米压印用光刻胶组合物在紫外纳米压印中的应用；

包括紫外光固化后剥离模板，之后使用有机溶剂和还原剂组合物清洗模板，以降解溶解模板上残留光刻胶。