[发明专利]研磨微粒及其制造方法、研磨剂在审
| 申请号： | 202010001512.5 | 申请日： | 2020-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN111171788A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 杨鹏;高峰;杨剑 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;张靖琳 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 公开了一种研磨微粒及其制造方法，方法包括形成研磨微粒的核心；将所述核心分散在有机溶剂中，加热到第一温度；加入阳离子表面活性剂，在第一温度下回流第一时长；加入磨料源，形成反应混合液，以第二温度反应第二时长，其中，所述磨料源用于形成对目标材料具有研磨效果的核壳。本发明提供的研磨微粒，是由氧化硅核心和氧化铈核壳构成的微球结构，因此可以降低氧化铈微粒不规则表面而造成的划伤半导体表面的风险，另外，由于氧化铈核壳为介孔结构，因此可以提高研磨微粒的韧性，降低研磨微粒在使用中的破损率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 微粒 及其 制造 方法 研磨剂 | ||
【主权项】：
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