[发明专利]研磨微粒及其制造方法、研磨剂

权利要求书

1.一种研磨微粒的制造方法，包括：

形成研磨微粒的核心；

将所述核心分散在有机溶剂中，加热到第一温度；

加入阳离子表面活性剂，在第一温度下回流第一时长；

加入磨料源，形成反应混合液，以第二温度反应第二时长，

其中，所述磨料源用于形成对目标材料具有研磨效果的核壳，所述核壳具有介孔结构。

2.根据权利要求2所述的制造方法，其中，所述核心由高分子聚合物构成。

3.根据权利要求2所述的制造方法，其中，所述核心的材料为氧化硅，所述核心为单分散纳米氧化硅微球。

4.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述核心与核壳的质量比的范围包括2：8到8：2。

5.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述有机溶剂包括乙醇、甲醇、甲苯、丙酮或异丙酮等的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述加入阳离子表面活性剂的同时，还包括：

加入碱性酸碱度调节液。

7.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述磨料源的材料为异丙醇铈，所述异丙醇铈在所述有机溶剂中水解成低聚氧化铈纳米粒子。

8.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述加入磨料源，形成反应混合液，以第二温度反应第二时长的步骤之后，还包括：

以第三温度反应第三时长。

9.根据权利要求8所述的制造方法，其中，所述以第三温度老化第三时长的步骤之后，还包括：

以第四温度反应第四时长。

10.一种研磨微粒，包括：

核心，所述核心的形状为球状结构；

包裹所述核心的核壳，所述核壳为磨料层，用于对目标材料进行研磨，

其中，所述核壳具有介孔结构。

11.根据权利要求10所述的研磨微粒，其中，所述核心由高分子聚合物构成。

12.根据权利要求11所述的研磨微粒，其中，所述核心的材料为氧化硅，所述核心为单分散纳米氧化硅微球，所述核壳的材料为氧化铈。

13.根据权利要求10所述的研磨微粒，其中，所述核心与核壳的质量比的范围包括2：8到8：2。

14.一种研磨剂，包括权利要求1-9中任一项所述的制造方法制得的研磨微粒，或权利要求10-13中任一项所述的研磨微粒。