[发明专利]投射光刻的照明光学系统在审
| 申请号： | 201980078420.2 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN113168114A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | T.刚;J.范肖特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种用于照明场的照明的投射光刻的光学照明系统，其中可以布置下游光学成像系统的物场。光学照明系统的光瞳分面反射镜具有多个光瞳分面(11)。每个光瞳分面(11)被设计为引导照明光的部分束(24 |
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| 搜索关键词： | 投射 光刻 照明 光学系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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